86-26 SRVGV OFFEN

Sputteranlage

Ausschreibende Stelle
Universität Duisburg-Essen
Leistungsort
Duisburg, Kreisfreie Stadt
Angebotsfrist
04. Dezember 2026, 09:00 in 24 Tagen
Leistung
CPV 38000000
Original
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Projektbeschreibung

Lieferung, Installation und Inbetriebnahme eines Ultrahochvakuum-(UHV)-Magnetron-Sputter-Beschichtungssystems.

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Pharma & Labor Maschinen, Industrieanlagen & Wartung Duisburg, Kreisfreie Stadt Öffentliche Auftraggeber

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Lose

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Los Leistung Ausführung
LOT-0001 Sputteranlage Lieferung, Installation und Inbetriebnahme eines Ultrahochvakuum-(UHV)-Magnetron-Sputter-Beschichtungssystems, inklusive Funktionsprüfung und Einweisung des Bedienpersonals vor Ort. Die genauen Spezifikationen können der Leistungsbeschreibung entnommen werden. —

Vergabeunterlagen

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Verfahren

Verfahrensart
VGV
Veröffentlicht
02. November 2026
Fragefrist
26. November 2026
Angebotsfrist
04. Dezember 2026, 09:00

Vergabestelle

Stelle
Universität Duisburg-Essen
Kontakt
vergabe@uni-due.de
Original
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